变更公告详情

低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）重新招标澄清或变更公告(2)

正文内容

招标项目编号：****-****SUMECK**/** 项目名称：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD） 项目名称(英文)：Low Stress High Density Film Deposition Equipment (ICPCVD) 招标人：**第三代半导体技术国创中心 招标机构：************* 招标机构代码：**** 招标方式：公开招标 投标报价方式：线下投标 招标结果：重新招标

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