北京航空航天大学2024年7至12月政府采购意向

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********集成电路科学与工程学院干式强磁场综合测试系统 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院干式强磁场综合测试系统 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********综合测量仪 采购需求概况 ： 可以同时提供极低温（<*K）、强磁场（±*T）复合环境，用于表征极低温、强磁场复合极端条件下凝聚态物质的变温电导率、电输运、一级微分电导、霍尔效应等电磁学物性的测试。 主要性能指标如下： 采用二级GM制冷机 变温范围：*.*K-***K 温度稳定性：优于±**mK 磁场强度：±*T 样品管内径：**mm 样品环境：静态交换氦气 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ********集成电路科学与工程学院二次离子质谱仪（D-SIMS） 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院二次离子质谱仪（D-SIMS） 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********电子光学及离子光学仪器 采购需求概况 ： 二次离子质谱仪（D-SIMS）：研究材料表面的原子排列和界面结构、表征薄膜、材料表面的清洁程度。纵向分辨率: *-**nm 离子源: Cs离子及O离子，束斑及能量: **um及以上，质量比分辨率: >****，杂质检测限: ppm-ppb级别。 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ********集成电路科学与工程学院反应离子束刻蚀设备 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院反应离子束刻蚀设备 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********其他试验仪器及装置 采购需求概况 ： 反应离子束刻蚀设备，配置离子源，能够实现*寸及以下的小碎片的刻蚀，配置反应气体不少于*种，终点检测可实现*平方厘米以下的开口面积的有效检测，可实现固定样品角度和夹角的刻蚀。 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ********集成电路科学与工程学院太赫兹矢量网络分析系统 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院太赫兹矢量网络分析系统 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********其他光通信设备 采购需求概况 ： 主要用于放大器、滤波器、混频器、倍频器等芯片幅度、相位、群延时等电性能特性的测试。 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ********集成电路科学与工程学院氧化物沉积PVD系统、金属沉积PVD系统、磁性材料沉积PVD系统 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院氧化物沉积PVD系统、金属沉积PVD系统、磁性材料沉积PVD系统 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********其他仪器仪表 采购需求概况 ： *. 氧化物沉积PVD系统： 该设备用于磁存储芯片加工制程中的氧化物PVD溅射工艺，可以实现氧化镁、氧化铝和氧化钌等氧化物的高质量沉积，主要性能指标： 沉积室极限真空*×**-*mbar； 可装载不少于*种靶材； 加热温度不低于***摄氏度； 均匀性优于*%； 配备脉冲和射频电源并且可以实现输入和输出的自动切换。 配备独立进样室并可实现自动传输； 软件可实现镀膜流程的全自动控制。 *. 金属沉积PVD系统： 该设备用于芯片加工制程中的PVD溅射工艺，提供用于芯片的金属化的工艺设备，可溅射Cu、AL、Ti等金属，主要性能指标： 沉积室极限真空*×**-*mbar； 可装载不少于*种靶材； 加热温度不低于***摄氏度； 均匀性优于*%； 配备独立进样室并可实现自动传输； 软件可实现镀膜流程的全自动控制。 *. 磁性材料沉积PVD系统： 该设备用于磁存储芯片加工制程中的磁性材料PVD溅射工艺，设备选用强磁溅射组件，可以实现Fe、Ni、Co及其合金的磁性材料单靶或共溅射，主要性能指标： 沉积室极限真空*×**-*mbar； 可装载不少于*种靶材； 加热温度不低于***摄氏度； 均匀性优于*%； 配备直流和射频电源并且可以实现输入和输出的自动切换。 配备独立进样室并可实现自动传输； 软件可实现镀膜流程的全自动控制。 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ********集成电路科学与工程学院电子透射显微设备 项目所在采购意向： ************年*至**月政府采购意向 采购单位： ******** 采购项目名称： ********集成电路科学与工程学院电子透射显微设备 预算金额： ***.******万元(人民币) 采购品目： A********电子光学及离子光学仪器 采购需求概况 ： 电子束透射显微设备，配置热场发射电子枪，加速电压不低于***kV，放大倍数不低于*******倍。 预计采购时间： ****-** 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。