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哈尔滨工业大学(深圳)等离子增强原子层沉积设备意向公开

正文内容

***工业大学(**)等离子增强原子层沉积设备意向公开采购单位:***工业大学(**)项目名称:等离子增强原子层沉积设备预算金额(元):*,***,***.***采购品目:电子工业生产设备采购需求概况:用于沉积新型半导体器件所需的栅氧层,包括Al*O*、AlN、HfO*等。设备需配置*路前驱体源,包括*路液体源、*路加热源、*路臭氧源和*路有毒或易燃气体源;配置*套反应腔;支持最大晶圆尺寸*英寸;栅氧层沉积最小厚度≤*nm;等离子发生器功率≥***W;反应室最高工艺温度≥***°C。联系人:简老师联系电话:****-********预计采购时间:****-**备注:无本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准

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